LPKF ProtoLaser U4

多目的UVレーザー装置

  • 直感的なオペレーション
  • UVレーザーによる多彩な加工
  • 優れたカメラシステム
  • 低出力での安定した加工
[Translate to Japanisch:] LPKF ProtoLaser U4 prototyping laser system

ProtoLaser U4

LPKF ProtoLaser U4による微細加工

LPKF ProtoLaser U4は前モデルの実績を引継ぎ、さらなるアプリケーションの広がりに対応した最新モデルです。

LPKF ProtoLaser U4による微細加工

多目的に使えるUVレーザーソース

LPKF ProtoLaser U4は、電子工学研究所で使用するために特別に開発されたUVスペクトルで波長355nmのレーザーソースを搭載しています。この波長により、追加のツールなどは使用せずに多くの材料をレーザーで加工してしまいます。

スキャンフィールドを並べて配置すると、最大229mm×305mm×10mmの加工範囲になります。直径約20µmのレーザー焦点は、銅箔18µmのFR4基板に65µm(50µmの加工ライン、15µmのスペース幅)のピッチの加工を実現します。

パワフルなソフトウェア

CAMソフトウェアLPKF CircuitProが付属しています。このソフトウェアではデータの編集と装置の制御ができ、全ての加工パラメータを設定することができます。標準材料や特殊材料についての加工パラメータライブラリがあらかじめセットされており、編集することもできます。

低出力でも安定した加工

デリケートで繊細な加工には高出力のレーザーは必要ありません。むしろ低出力での加工性能が重要です。複数回の加工で超精密な配線パターンも形成できます。新型の UVレーザーソースはパラメータ範囲内で高い出力安定性を保っています。そのため、安心して多彩な材料や薄膜を加工を任せることができます。

トラッキング

新しい性能評価フィールドが、焦点距離でのレーザー性能を決定・表示します。LPKFは実際の正確なデータを文書化したいというユーザーのご意見によりこの機能を追加しました。

カメラシステム

LPKF ProtoLaser U4は微細加工に最適化された新型のビジョンシステムを搭載。カメラと画像認識プロセスはさまざまなアライメントマークを認識します。高い解像度と迅速な検知アルゴリズムにより、製造プロセスがさらに早くなりました。

アプリケーション - 超微細加工に挑戦

LPKF ProtoLaserU4でのRFフィルター加工

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カタログ
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PCBプロトタイピング総合カタログ
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TechGuide
LPKF TechGuide Rapid PCB Prototyping (pdf - 3 MB)
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LPKF ProtoLaserシリーズ

LPKF ProtoLaser U4

ProtoLaser U4は、UVレーザー波長によって1回の操作でさまざまな材料の加工を行うことができます。 このレーザーシステムは低出力範囲で安定しているため、薄い有機層でも最小限の熱伝達での加工を実現します。

ProtoLaser R4 -- picosecond laser

熱伝達がほとんどないレーザーアブレーション - パルス幅が短いほど材料への熱影響は少なくなります。ProtoLaser R4のピコ秒レーザーが材料への熱影響のハードルを無くします。レーザーが照射された材料はすぐに蒸発するため、熱伝達はありません。

LPKF ProtoLaser S4

コンパクトなレーザーシステムは、非常に短時間で難易度の高い加工を行います。ProtoLaser S4は、特別なプロセスを使用して、FR4などのラミネート基板から大きな銅範囲でもすばやく除去します。RFアプリケーション用の特殊な材料でも優れた結果をもたらします。

卓上型システム ProtoLaser H4は、アナログ、デジタル、RF、およびマイクロ波アプリケーション、また多層基板においても、効率的な加工を可能にします。レーザーによる精密な表面パターン加工、そして、ドリルモーターにより厚みのある基板にも正確な穴あけとフライス加工を行います。


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